【IPO價值觀】拓荊科技盈利能力不足 產品類型單一且周轉率低

【編者按】近年來，中國集成電路產業一直處于風口之中。隨著科創板的推出，越來越多的企業準備IPO以謀求更快的發展。為了更全面地了解IPO公司整體財務水平和行業地位，推出“IPO價值觀——財務指標”系列，將正在IPO的公司各方面財務指標與集微數據庫中A股135家中國芯上市公司對比分析，并對其排名，以供半導體投資者和行業人員參考。本期進行對比分析的公司為拓荊科技股份有限公司。

據筆者查詢上交所網站可知，拓荊科技科創板IPO處于已問詢狀態。據招股說明書顯示，拓荊科技主要從事高端半導體專用設備的研發、生產、銷售和技術服務。公司聚焦的半導體薄膜沉積設備與光刻機、刻蝕機共同構成芯片制造三大主設備。

公司主要產品包括等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）設備、原子層沉積（ALD）設備和次常壓化學氣相沉積（SACVD）設備三個產品系列，已廣泛應用于國內晶圓廠14nm及以上制程集成電路制造產線，并已展開10nm及以下制程產品驗證測試。

報告期內，主要產品銷售收入及占公司主營業務收入的比重如下：

分業務來看，報告期內，拓荊科技PECVD設備收入占比較高且增長較快，為公司的主要收入來源，占比近100%。

【編者按】近年來，中國集成電路產業一直處于風口之中。隨著科創板的推出，越來越多的企業準備IPO以謀求更快的發展。為了更全面地了解IPO公司整體財務水平和行業地位，推出“IPO價值觀——財務指標”系列，將正在IPO的公司各方面財務指標與集微數據庫中A股135家中國芯上市公司對比分析，并對其排名，以供半導體投資者和行業人員參考。本期進行對比分析的公司為拓荊科技股份有限公司。

據筆者查詢上交所網站可知，拓荊科技科創板IPO處于已問詢狀態。據招股說明書顯示，拓荊科技主要從事高端半導體專用設備的研發、生產、銷售和技術服務。公司聚焦的半導體薄膜沉積設備與光刻機、刻蝕機共同構成芯片制造三大主設備。

公司主要產品包括等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）設備、原子層沉積（ALD）設備和次常壓化學氣相沉積（SACVD）設備三個產品系列，已廣泛應用于國內晶圓廠14nm及以上制程集成電路制造產線，并已展開10nm及以下制程產品驗證測試。

報告期內，主要產品銷售收入及占公司主營業務收入的比重如下：

分業務來看，報告期內，拓荊科技PECVD設備收入占比較高且增長較快，為公司的主要收入來源，占比近100%。

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